氯化氫

     氯化氫氣體與Ge的反應表現(xiàn)有哪些

     氯化氫    氣體屬于性質(zhì)不穩(wěn)定的氣體，不僅容易分解成為氯氣與氫氣，同時還非常容易與金屬物體發(fā)生反應。并且在氣體遇水后腐蝕性會大增，尤其像高純氯化氫溶于水之后其危害性堪比硝酸。因此氯化氫氣體是一種非常容易與周圍物體發(fā)生反應的有毒氣體。

    從專業(yè)角度上講，氯化氫氣體是一種具有腐蝕性的不燃燒氣體，與水不反應但易溶于水，空氣中常以鹽酸煙霧的形式存在，主要用于電池、藥品、染料、化肥、玻璃加工、金屬清洗、有機合成、腐蝕照像、陶器制造、食品處理、無機氯化物制造等。

    最近有科學家正在探討氯化氫氣體與氯氣在Ge(100)表面的吸附與熱分解反應，那么，氯化氫氣體與Ge的反應表現(xiàn)究竟會有哪些呢？下面就由筆者為大家做出詳細介紹。

    我們利用程溫脫附質(zhì)譜(TPD)及X光光電子能譜(XPS)研究氯化氫(HCl)及氯氣(Cl2)在鍺(100)表面的吸附及熱分解反應于105K，曝露氯化氫于鍺表面，最初只出現(xiàn)分解吸附(Ge-H、Ge-Cl)；當曝露量增大，伴隨有未分解吸附，依照曝露量多寡，在275 K未分解的氯化氫會分解并持續(xù)以分解吸附的型態(tài)吸附于表面；當溫度升至675K時較弱的Ge-H鍵先斷，經(jīng)由再結合形成H2、HCl脫附，而殘馀分解吸附的Cl則于700K時Ge-Cl鍵斷裂，形成GeCl2脫附。因此氯化氫在鍺(100)表面熱分解的產(chǎn)物為H2、HCl、GeCl2。

    為了更進一步了解氯在鍺(100)表面吸附的情形，將HCl的H置換成Cl，探討分子組成均為氯在鍺表面的吸附情形，并與氯化氫比較。發(fā)現(xiàn)兩者在鍺(100)表面于曝露量大時，均有未分解吸附的吸附態(tài)，但結構不同，氯氣之分子吸附態(tài)于225K開始形成GeCl4脫附。兩者相似的是，室溫后均為分解吸附情形，故有相似的反應路徑，不同的是氯氣均為Ge-Cl吸附情形，無H存在，故于700K時Ge-Cl鍵斷裂，形成GeCl2及微量Cl2脫附。因此氯氣在鍺(100)表面熱分解的產(chǎn)物為GeCl4、GeCl2、Cl2。

    由上述氯化氫氣體與Ge的反應表現(xiàn)不難看出，氯化氫是非常容易與其它元素發(fā)生反應的氣體。因此上游的氯化氫廠家在進行日常的產(chǎn)品生產(chǎn)時一定要注意相關的安全性問題，以免因為一時不慎而造成無法挽回的后果。

    淄博言赫經(jīng)貿(mào)有限公司作為淄博地區(qū)一家專業(yè)的氯化氫供應機構，公司雖然不是專業(yè)的氯化氫廠家，但是公司不僅擁有先進的氯化氫生產(chǎn)技術，即便是在氯化氫氣體的應用方面，同樣經(jīng)驗豐富，因而深受行業(yè)的好評，是最值得下游氯化氫需求廠家信賴的產(chǎn)品供應基地。